1. 由于车间冒出的浓烟含有大量毒性气体,并且硫磺、黄磷、五硫化二磷都属易燃有毒物品,如果用直流水枪直接喷射会造成着火物溅射导致火灾蔓延。

2. 分析了氘饱和状态下液态锂作为包层流动液帘表面的溅射问题，得到了氘饱和状态下液态和固态锂的溅射产额。

3. 溅射原子发射的角分布概率和溅射花样与高能溅射相类似。

4. 本文将主要叙述等离子溅射镀膜的原理与方法,并且简单介绍磁控管溅射仪和锇等离子镀膜仪等.

5. 一蓬黑血溅射出一只拳头大的眼,其中的不甘让人有着瞬间的悲悯,随之砰然化为了飞烟。

6. 采用磁控射频溅射法制备光波导用玻璃薄膜。

7.4. 本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。

8. 采用射频溅射制备BST薄膜，研究了薄膜的介电击穿特性。

9. 具有自己生产蒸发和溅射匀胶铬版的知识产权。

10. 声声闷响传出,夏天身体呈现红金二色,二者相互争持侵蚀,三百六十道光点一个个的开始爆裂,尤为刺眼的血红色血液从中溅射而出。

11.36. 以磁控溅射沉积方法，采用循环氩离子轰击镀和未循环轰击镀工艺在金属*上制备了铝薄膜。

12. 为改善射频溅射法制备的防水透湿涂层的外观和拒水性，对涤纶织物基底上的溅射氟碳高分子膜的泛黄问题进行了研究。

13. 所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。

14.42. 一是因畸变层与非畸变层的扩散系数不同，结果由扩散导致交界区出现原子富集；二是离子轰击的溅射作用和溅射衰减效应使得出现内层的浓度峰。

15. 研究结果表明，磁控溅射制备的碳氟膜为非晶结构。

16.13. 它们拍发的大量导弹可以造成不可思议的溅射伤害.

17.68. 具有自己生产蒸发和溅射匀胶铬版的知识产权。

18.3. 研究结果表明，磁控溅射制备的碳氟膜为非晶结构。

19. 本文用光谱分析的方法研究低温反应射频溅射生长的A1N薄膜。

20.38. 对于反应溅射，可通过连续改变反应气体流量制得化学成分比连续变化的梯度薄膜。

21. 本文利用正交实验方法，对非平衡磁控溅射技术制备无氢DLC膜增透膜进行了研究，得到了影响薄膜光学性能的主要因素和最佳的制备工艺。

22. 现在反应溅射法已被广泛应用于切削刀具、成型工具、注射模具和诸如冲头和冲模之类的通用器具，以增强其耐磨性和使用寿命。

23.10. 研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。

24.48. 反应溅射中氧分压对薄膜的影响也很大，较高的氧气分压有助于较好结晶的二氧化钛薄膜的生成。

25.23. 射频溅射沉积的薄膜均匀性和致密性要优于直流溅射沉积的薄膜。

26. 因为先被切开的切口处会因为血压的关系溅射出血液,这也是喷溅型血渍的成因。

27.44. 利用磁控射频溅射技术制备了ITO薄膜。

28. 应用TRIM程序模拟了离子在氚钛靶上的溅射产额。

29. 通过磁控反应溅射，在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。

30. 在不同条件下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。

31.7. 所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。

32. 无闪烁、溅射、眩光，彻底消除眼睛疲劳，且不含液态汞。是绿色环保的首选光源。

33. 一个个子不高的小胖子,笨拙的游趟在湖底,瞪大那双水灵灵的小眼睛,憨头憨脑的四处环望,不时狼狈的躲避着那溅射起的熔炎。

34. 在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中，离子源是其中最关键的单元技术之一。

35.24. 采用磁控射频溅射法制备光波导用玻璃薄膜。

36. 过高的溅射功率使薄膜以非晶态的形式存在.

37.11. 为改善射频溅射法制备的防水透湿涂层的外观和拒水性，对涤纶织物基底上的溅射氟碳高分子膜的泛黄问题进行了研究。

38.28. 老实说,狂战斧挺好用的,它可以带来相当可观的攻击加成,恢复能力,并且它还有溅射效果.

39. 在不同的衬底温度下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。

40.16. 也可以单独作为磁控溅射或多弧离子镀膜机使用。

41.70. 因为先被切开的切口处会因为血压的关系溅射出血液,这也是喷溅型血渍的成因。

42.2. 这是溅射离子簇质谱中继“幻数”结构的另一个重要性质。

43. 离化团束的溅射产额比之单体离子束高100倍以上。

44.34. 用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。

45. 用磁控溅射低温沉积镀膜技术制做锰铜薄膜,能够保持薄膜中锰、铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性.

46.59. 在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中，离子源是其中最关键的单元技术之一。

47. 采用磁控溅射法制备锰铜薄膜,溅射和真空蒸发法制备镱薄膜.

48.25. 方法：用电子束蒸发和射频磁控溅射两种技术制备了天然HA薄膜。

49. 方法：用电子束蒸发和射频磁控溅射两种技术制备了天然HA薄膜。

50. 以磁控溅射沉积方法，采用循环氩离子轰击镀和未循环轰击镀工艺在金属*上制备了铝薄膜。