1.27. 首先提出真空管道自体真空镀膜新概念，采用特殊的阴极靶结构设计成功的解决了长管道内表面直流溅射镀膜的难题。

2. 过高的溅射功率使薄膜以非晶态的形式存在.

3. 介绍一种大功率直流溅射恒流电源的设计。

4. 应用TRIM程序模拟了离子在氚钛靶上的溅射产额。

5.25. 方法：用电子束蒸发和射频磁控溅射两种技术制备了天然HA薄膜。

6. 首先提出真空管道自体真空镀膜新概念，采用特殊的阴极靶结构设计成功的解决了长管道内表面直流溅射镀膜的难题。

7.溅射、眩光，彻底消除眼睛疲劳，且不含液态汞。是绿色环保的首选光源。

8. 三极反应溅射具有设备简单，工艺简便，镀层致密等特点。

9. 一蓬黑血溅射出一只拳头大的眼,其中的不甘让人有着瞬间的悲悯,随之砰然化为了飞烟。

10.16. 也可以单独作为磁控溅射或多弧离子镀膜机使用。

11. 由于车间冒出的浓烟含有大量毒性气体,并且硫磺、黄磷、五硫化二磷都属易燃有毒物品,如果用直流水枪直接喷射会造成着火物溅射导致火灾蔓延。

12. 真空室内的气体等离子体可由热灯丝或射频放电产生，4另外还配置了4个金属等离子体源、两套磁控溅射靶和冷却靶台。

13. 采用射频溅射制备BST薄膜，研究了薄膜的介电击穿特性。

14.40. 离化团束的溅射产额比之单体离子束高100倍以上。

15. 用磁控溅射低温沉积镀膜技术制做锰铜薄膜,能够保持薄膜中锰、铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性.

16. 一是因畸变层与非畸变层的扩散系数不同，结果由扩散导致交界区出现原子富集；二是离子轰击的溅射作用和溅射衰减效应使得出现内层的浓度峰。

17.2. 这是溅射离子簇质谱中继“幻数”结构的另一个重要性质。

18.13. 它们拍发的大量导弹可以造成不可思议的溅射伤害.

19. 通过磁控反应溅射，在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。

20. 对于反应溅射，可通过连续改变反应气体流量制得化学成分比连续变化的梯度薄膜。

21. 在离子束溅射镀膜机的膜厚控制系统的研究中，由于采用了现代检测手段，使测量精度大大提高。

22. 用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。

23.67. 一个个子不高的小胖子,笨拙的游趟在湖底,瞪大那双水灵灵的小眼睛,憨头憨脑的四处环望,不时狼狈的躲避着那溅射起的熔炎。

24.47. 通过磁控反应溅射，在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。

25. 并且随着阴极温度升高,阴极溅射率也随之增加.

26.22. 应用TRIM程序模拟了离子在氚钛靶上的溅射产额。

27.12. 过高的溅射功率使薄膜以非晶态的形式存在.

28. 数百妖兽死后溅射出的血液,激起后方妖兽的凶性,舍生忘死地冲向西门吹雪化成的死亡白光之内。

29. 与常用的电镀法和室温溅射法相比，大幅度的降低了电极的载铂量，减小了电池的制作成本。

30. 离化团束的溅射产额比之单体离子束高100倍以上。

31.52. 本文用光谱分析的方法研究低温反应射频溅射生长的A1N薄膜。

32. 一个个子不高的小胖子,笨拙的游趟在湖底,瞪大那双水灵灵的小眼睛,憨头憨脑的四处环望,不时狼狈的躲避着那溅射起的熔炎。

33.59. 在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中，离子源是其中最关键的单元技术之一。

34.两套磁控溅射靶和冷却靶台。

35.58. 采用射频溅射制备BST薄膜，研究了薄膜的介电击穿特性。

36. 采用氢离子溅射和X射线光电子能谱相结合的方法，检测焦磷酸盐镀铜层和铁基体界面区含氧量的变化，证明了氧化层的存在。

37.31. 低溅射功率下，与键角畸变有关的结构无序是导致光学带隙变窄的主要因素。

38.5. 溅射原子发射的角分布概率和溅射花样与高能溅射相类似。

39. 本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。

40. 在不同的衬底温度下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。

41.34. 用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。

42. 具有自己生产蒸发和溅射匀胶铬版的知识产权。

43.65. 一蓬黑血溅射出一只拳头大的眼,其中的不甘让人有着瞬间的悲悯,随之砰然化为了飞烟。

44. 所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。

45.铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性.

46. 采用磁控溅射法制备锰铜薄膜,溅射和真空蒸发法制备镱薄膜.

47.45. 采用磁控溅射法制备锰铜薄膜,溅射和真空蒸发法制备镱薄膜.

48. 反应磁控溅射广泛应用于制备光学薄膜.

49. 射频溅射沉积的薄膜均匀性和致密性要优于直流溅射沉积的薄膜。

50.70. 因为先被切开的切口处会因为血压的关系溅射出血液,这也是喷溅型血渍的成因。