1. 三极反应溅射具有设备简单，工艺简便，镀层致密等特点。

2.48. 反应溅射中氧分压对薄膜的影响也很大，较高的氧气分压有助于较好结晶的二氧化钛薄膜的生成。

3.21. 采用氢离子溅射和X射线光电子能谱相结合的方法，检测焦磷酸盐镀铜层和铁基体界面区含氧量的变化，证明了氧化层的存在。

4.42. 一是因畸变层与非畸变层的扩散系数不同，结果由扩散导致交界区出现原子富集；二是离子轰击的溅射作用和溅射衰减效应使得出现内层的浓度峰。

5.10. 研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。

6. 由于车间冒出的浓烟含有大量毒性气体,并且硫磺、黄磷、五硫化二磷都属易燃有毒物品,如果用直流水枪直接喷射会造成着火物溅射导致火灾蔓延。

7.65. 一蓬黑血溅射出一只拳头大的眼,其中的不甘让人有着瞬间的悲悯,随之砰然化为了飞烟。

8. 本文用光谱分析的方法研究低温反应射频溅射生长的A1N薄膜。

9. 在不同条件下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。

10.45. 采用磁控溅射法制备锰铜薄膜,溅射和真空蒸发法制备镱薄膜.

11.1. 采用磁控溅射方法制备金属锑薄膜，并把它作为锂离子二次电池负极进行研究。

12.70. 因为先被切开的切口处会因为血压的关系溅射出血液,这也是喷溅型血渍的成因。

13.3. 研究结果表明，磁控溅射制备的碳氟膜为非晶结构。

14. 现在反应溅射法已被广泛应用于切削刀具、成型工具、注射模具和诸如冲头和冲模之类的通用器具，以增强其耐磨性和使用寿命。

15. 与常用的电镀法和室温溅射法相比，大幅度的降低了电极的载铂量，减小了电池的制作成本。

16.54. 采用磁控共溅射法制备了含不同尺寸纳米硅晶粒的氧化硅复合薄膜。

17. 一是因畸变层与非畸变层的扩散系数不同，结果由扩散导致交界区出现原子富集；二是离子轰击的溅射作用和溅射衰减效应使得出现内层的浓度峰。

18.12. 过高的溅射功率使薄膜以非晶态的形式存在.

19.7. 所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。

20. 无闪烁、溅射、眩光，彻底消除眼睛疲劳，且不含液态汞。是绿色环保的首选光源。

21.31. 低溅射功率下，与键角畸变有关的结构无序是导致光学带隙变窄的主要因素。

22. 研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。

23.41. 磁控溅射离子镀铝膜不是简单的单质外接铝膜，而是铝和铁组成的合金膜。

24.溅射和热解等方法。

25. 射频溅射沉积的薄膜均匀性和致密性要优于直流溅射沉积的薄膜。

26. 枪是一种先进的真空溅射镀膜器件，可用于进行多种真空镀膜工艺。

27. 一声闷哼,剑光忽歇,在众人惊骇目光中,一支只剩半截的羽箭正斜斜插在余天化脖颈上,锋利的扁状箭镞已将动脉割断,鲜血如喷泉般咕咕溅射。

28. 采用磁控射频溅射法制备光波导用玻璃薄膜。

29. 采用磁控溅射方法制备金属锑薄膜，并把它作为锂离子二次电池负极进行研究。

30. 用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。

31. 脉冲溅射是一种新型的、用于消除直流反应溅射中异常放电的技术。

32.25. 方法：用电子束蒸发和射频磁控溅射两种技术制备了天然HA薄膜。

33. 在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中，离子源是其中最关键的单元技术之一。

34. 用磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了氮氧化铪薄膜。

35. 真空室内的气体等离子体可由热灯丝或射频放电产生，4另外还配置了4个金属等离子体源、两套磁控溅射靶和冷却靶台。

36.34. 用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。

37. 利用磁控射频溅射技术制备了ITO薄膜。

38.黄磷、五硫化二磷都属易燃有毒物品,如果用直流水枪直接喷射会造成着火物溅射导致火灾蔓延。

39. 春雨啊，哗哗地下，雨珠落在湖面上，像珍珠落在玉盘里四面溅射；雨珠落在干土上，地皮上陷下一个小坑，像草原姑娘脸上的笑靥。雨好牧草就好，牧草好牲口就好，牲口好牧民的生活就好。

40. 溅射原子发射的角分布概率和溅射花样与高能溅射相类似。

41. 磁控溅射离子镀铝膜不是简单的单质外接铝膜，而是铝和铁组成的合金膜。

42.52. 本文用光谱分析的方法研究低温反应射频溅射生长的A1N薄膜。

43. 采用磁控溅射法制备锰铜薄膜,溅射和真空蒸发法制备镱薄膜.

44. 在离子束溅射镀膜机的膜厚控制系统的研究中，由于采用了现代检测手段，使测量精度大大提高。

45. 用磁控溅射低温沉积镀膜技术制做锰铜薄膜,能够保持薄膜中锰、铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性.

46. 数百妖兽死后溅射出的血液,激起后方妖兽的凶性,舍生忘死地冲向西门吹雪化成的死亡白光之内。

47. 一个个子不高的小胖子,笨拙的游趟在湖底,瞪大那双水灵灵的小眼睛,憨头憨脑的四处环望,不时狼狈的躲避着那溅射起的熔炎。

48.59. 在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中，离子源是其中最关键的单元技术之一。

49. 本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。

50. 在不同的衬底温度下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。