1.25. 方法：用电子束蒸发和射频磁控溅射两种技术制备了天然HA薄膜。

2. 真空室内的气体等离子体可由热灯丝或射频放电产生，4另外还配置了4个金属等离子体源、两套磁控溅射靶和冷却靶台。

3.33. 辉光光谱定量转化所得深度结果与表面形貌仪刚定相应溅射坑的深度结果对比发现，本方法定量转化深度结果准确可靠。

4. 采用磁控共溅射法制备了含不同尺寸纳米硅晶粒的氧化硅复合薄膜。

5. 磁控溅射离子镀铝膜不是简单的单质外接铝膜，而是铜和铝组成的合金膜。

6. 在理论上考虑了原子级联碰撞过程中的能量和动量传输的不对称性，给出了一个与实验结果相符的同位素溅射角分布表达式。

7. 因为先被切开的切口处会因为血压的关系溅射出血液,这也是喷溅型血渍的成因。

8. 三极反应溅射具有设备简单，工艺简便，镀层致密等特点。

9.21. 采用氢离子溅射和X射线光电子能谱相结合的方法，检测焦磷酸盐镀铜层和铁基体界面区含氧量的变化，证明了氧化层的存在。

10.28. 老实说,狂战斧挺好用的,它可以带来相当可观的攻击加成,恢复能力,并且它还有溅射效果.

11.63. 一声闷哼,剑光忽歇,在众人惊骇目光中,一支只剩半截的羽箭正斜斜插在余天化脖颈上,锋利的扁状箭镞已将动脉割断,鲜血如喷泉般咕咕溅射。

12. 低溅射功率下，与键角畸变有关的结构无序是导致光学带隙变窄的主要因素。

13.12. 过高的溅射功率使薄膜以非晶态的形式存在.

14.16. 也可以单独作为磁控溅射或多弧离子镀膜机使用。

15. 首先提出真空管道自体真空镀膜新概念，采用特殊的阴极靶结构设计成功的解决了长管道内表面直流溅射镀膜的难题。

16. 用磁控溅射低温沉积镀膜技术制做锰铜薄膜,能够保持薄膜中锰、铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性.

17. 声声闷响传出,夏天身体呈现红金二色,二者相互争持侵蚀,三百六十道光点一个个的开始爆裂,尤为刺眼的血红色血液从中溅射而出。

18. 在离子束溅射镀膜机的膜厚控制系统的研究中，由于采用了现代检测手段，使测量精度大大提高。

19. 也可以单独作为磁控溅射或多弧离子镀膜机使用。

20. 在双元靶严格解的基础上，证明了泽优溅射与原子的半径大小无关。

21. 应用TRIM程序模拟了离子在氚钛靶上的溅射产额。

22. 采用磁控射频溅射法制备光波导用玻璃薄膜。

23. 反应溅射中氧分压对薄膜的影响也很大，较高的氧气分压有助于较好结晶的二氧化钛薄膜的生成。

24. 采用氢离子溅射和X射线光电子能谱相结合的方法，检测焦磷酸盐镀铜层和铁基体界面区含氧量的变化，证明了氧化层的存在。

25. 与常用的电镀法和室温溅射法相比，大幅度的降低了电极的载铂量，减小了电池的制作成本。

26.14. 三极反应溅射具有设备简单，工艺简便，镀层致密等特点。

27.铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性.

28. 所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。

29.41. 磁控溅射离子镀铝膜不是简单的单质外接铝膜，而是铝和铁组成的合金膜。

30. 本文将主要叙述等离子溅射镀膜的原理与方法,并且简单介绍磁控管溅射仪和锇等离子镀膜仪等.

31.54. 采用磁控共溅射法制备了含不同尺寸纳米硅晶粒的氧化硅复合薄膜。

32. 反应磁控溅射广泛应用于制备光学薄膜.

33.8. 在双元靶严格解的基础上，证明了泽优溅射与原子的半径大小无关。

34.49. 用直流反应磁控溅射法制备了氧化镍电致变色薄膜,采用XRD和TEM对所制的薄膜结构进行了研究.

35.5. 溅射原子发射的角分布概率和溅射花样与高能溅射相类似。

36. 本文用光谱分析的方法研究低温反应射频溅射生长的A1N薄膜。

37.43. 本文利用正交实验方法，对非平衡磁控溅射技术制备无氢DLC膜增透膜进行了研究，得到了影响薄膜光学性能的主要因素和最佳的制备工艺。

38. 用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。

39. 方法：用电子束蒸发和射频磁控溅射两种技术制备了天然HA薄膜。

40. 为改善射频溅射法制备的防水透湿涂层的外观和拒水性，对涤纶织物基底上的溅射氟碳高分子膜的泛黄问题进行了研究。

41. 通过磁控反应溅射，在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。

42. 无闪烁、溅射、眩光，彻底消除眼睛疲劳，且不含液态汞。是绿色环保的首选光源。

43.66. 声声闷响传出,夏天身体呈现红金二色,二者相互争持侵蚀,三百六十道光点一个个的开始爆裂,尤为刺眼的血红色血液从中溅射而出。

44. 研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。

45. 这是溅射离子簇质谱中继“幻数”结构的另一个重要性质。

46. 并且随着阴极温度升高,阴极溅射率也随之增加.

47. 高Z材料因其高熔点和低溅射率近年来受到越来越多的关注，但是难熔材料的脆性等问题仍然是这类材料应用的一大障碍。

48.7. 所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。

49. 枪是一种先进的真空溅射镀膜器件，可用于进行多种真空镀膜工艺。

50.70. 因为先被切开的切口处会因为血压的关系溅射出血液,这也是喷溅型血渍的成因。