1.利用直流弧光放电法制备了巴基葱，高分辨透射电子显微镜分析表明这种巴基葱为空心椭球形，由11层富勒烯组成。

2.理论分析与实验发现：弧光放电现象的出现是造成激光器放电及输出不稳定的最主要的因素，而引起弧光放电的因素则是多方面的。

3. 利用直流弧光放电法制备了巴基葱，高分辨透射电子显微镜分析表明这种巴基葱为空心椭球形，由11层富勒烯组成。

4.分别以注入机和气体常压弧光放电产生的低能离子作用于固态和溶液中的氨基酸，研究了样品红外光谱的变化。

5.可减少所述弧光放电现象的产生。

6.结果表明，在抑制阳极发生弧光放电的状态下，镁合金表面可以沉积一层致密的氧化厚膜层，该膜层具有较高的硬度和优良的耐蚀性能。

7. 从理论上推导出低压气体弧光放电稳定的外电路几种条件。

8.装运前所有电源都经过严格的动态测试以及反复的弧光放电检测。

9. 分别以注入机和气体常压弧光放电产生的低能离子作用于固态和溶液中的氨基酸，研究了样品红外光谱的变化。

10.从理论上推导出低压气体弧光放电稳定的外电路几种条件。

11. 结果表明，交流脉冲放电在抑制弧光放电和空心阴极效应方面是非常有效的，对于高铬钢材料表面的离子渗氮作用是明显的。

12.结果表明，交流脉冲放电在抑制弧光放电和空心阴极效应方面是非常有效的，对于高铬钢材料表面的离子渗氮作用是明显的。

13.本文讨论磁场中中等低气压弧光放电与辉光放电的正柱理论。

14.结果表明，在抑制阳极发生弧光放电的状态下，镁合金表面可以沉积一层致密的氧化厚膜层，该膜层具有较高的硬度和优良的耐蚀性能。

15.分别以注入机和气体常压弧光放电产生的低能离子作用于固态和溶液中的氨基酸，研究了样品红外光谱的变化。

16. 本文讨论磁场中中等低气压弧光放电与辉光放电的正柱理论。

17.从理论上推导出低压气体弧光放电稳定的外电路几种条件。

18.多弧离子镀技术是离子镀技术的一种改进方法，它是把弧光放电作为金属蒸发源的表面涂层技术。

19. 汞弧光放电是一种低气压气体放电现象，放电电流密度大。

20.从理论上推导出低压气体弧光放电稳定的外电路几种条件。

21.日光灯是一种低气压的汞蒸气弧光放电灯.

22. 装运前所有电源都经过严格的动态测试以及反复的弧光放电检测。

23. 日光灯是一种低气压的汞蒸气弧光放电灯.

24.RCAE1047可以在高真空和低电流条件下稳定弧光放电工作，特别是采用纯锆靶材时。

25.本文讨论磁场中中等低气压弧光放电与辉光放电的正柱理论。

26.理论分析与实验发现：弧光放电现象的出现是造成激光器放电及输出不稳定的最主要的因素，而引起弧光放电的因素则是多方面的。

27.多弧离子镀技术是离子镀技术的一种改进方法，它是把弧光放电作为金属蒸发源的表面涂层技术。

28.RCAE1047可以在高真空和低电流条件下稳定弧光放电工作，特别是采用纯锆靶材时。

29.汞弧光放电是一种低气压气体放电现象，放电电流密度大。

30.可减少所述弧光放电现象的产生。

31.可减少所述弧光放电现象的产生。

32. 理论分析与实验发现：弧光放电现象的出现是造成激光器放电及输出不稳定的最主要的因素，而引起弧光放电的因素则是多方面的。

33. RCAE1047可以在高真空和低电流条件下稳定弧光放电工作，特别是采用纯锆靶材时。

34.利用直流弧光放电法制备了巴基葱，高分辨透射电子显微镜分析表明这种巴基葱为空心椭球形，由11层富勒烯组成。

35.汞弧光放电是一种低气压气体放电现象，放电电流密度大。

36. 多弧离子镀技术是离子镀技术的一种改进方法，它是把弧光放电作为金属蒸发源的表面涂层技术。

37.装运前所有电源都经过严格的动态测试以及反复的弧光放电检测。

38.结果表明，交流脉冲放电在抑制弧光放电和空心阴极效应方面是非常有效的，对于高铬钢材料表面的离子渗氮作用是明显的。

39. 结果表明，在抑制阳极发生弧光放电的状态下，镁合金表面可以沉积一层致密的氧化厚膜层，该膜层具有较高的硬度和优良的耐蚀性能。