1. 辉光光谱定量转化所得深度结果与表面形貌仪刚定相应溅射坑的深度结果对比发现，本方法定量转化深度结果准确可靠。

2. 本论文对真空蒸发法和直流溅射法沉积锌膜的工艺进行了研究，结合XRD、SEM、AFM等分析手段，以探索这两种方法在制备锌膜方面的一般规律。

3.两套磁控溅射靶和冷却靶台。

4. 一个个子不高的小胖子,笨拙的游趟在湖底,瞪大那双水灵灵的小眼睛,憨头憨脑的四处环望,不时狼狈的躲避着那溅射起的熔炎。

5. 一声闷哼,剑光忽歇,在众人惊骇目光中,一支只剩半截的羽箭正斜斜插在余天化脖颈上,锋利的扁状箭镞已将动脉割断,鲜血如喷泉般咕咕溅射。

6.50. 并且随着阴极温度升高,阴极溅射率也随之增加.

7. 分析了氘饱和状态下液态锂作为包层流动液帘表面的溅射问题，得到了氘饱和状态下液态和固态锂的溅射产额。

8. 因为先被切开的切口处会因为血压的关系溅射出血液,这也是喷溅型血渍的成因。

9.铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性.

10. 在离子束溅射镀膜机的膜厚控制系统的研究中，由于采用了现代检测手段，使测量精度大大提高。

11.14. 三极反应溅射具有设备简单，工艺简便，镀层致密等特点。

12.70. 因为先被切开的切口处会因为血压的关系溅射出血液,这也是喷溅型血渍的成因。

13.溅射和热解等方法。

14.25. 方法：用电子束蒸发和射频磁控溅射两种技术制备了天然HA薄膜。

15. 具有自己生产蒸发和溅射匀胶铬版的知识产权。

16. 所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。

17. 应用TRIM程序模拟了离子在氚钛靶上的溅射产额。

18. 在纳晶敏化太阳能电池中，载铂对电极的制备通常有电沉积、溅射和热解等方法。

19. 脉冲溅射是一种新型的、用于消除直流反应溅射中异常放电的技术。

20. 射频溅射沉积的薄膜均匀性和致密性要优于直流溅射沉积的薄膜。

21.57. 用磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了氮氧化铪薄膜。

22. 一蓬黑血溅射出一只拳头大的眼,其中的不甘让人有着瞬间的悲悯,随之砰然化为了飞烟。

23. 本文用光谱分析的方法研究低温反应射频溅射生长的A1N薄膜。

24.16. 也可以单独作为磁控溅射或多弧离子镀膜机使用。

25.23. 射频溅射沉积的薄膜均匀性和致密性要优于直流溅射沉积的薄膜。

26. 对于反应溅射，可通过连续改变反应气体流量制得化学成分比连续变化的梯度薄膜。

27.46. 在离子束溅射镀膜机的膜厚控制系统的研究中，由于采用了现代检测手段，使测量精度大大提高。

28.68. 具有自己生产蒸发和溅射匀胶铬版的知识产权。

29. 磁控溅射离子镀铝膜不是简单的单质外接铝膜，而是铝和铁组成的合金膜。

30. 数百妖兽死后溅射出的血液,激起后方妖兽的凶性,舍生忘死地冲向西门吹雪化成的死亡白光之内。

31. 低溅射功率下，与键角畸变有关的结构无序是导致光学带隙变窄的主要因素。

32. 一是因畸变层与非畸变层的扩散系数不同，结果由扩散导致交界区出现原子富集；二是离子轰击的溅射作用和溅射衰减效应使得出现内层的浓度峰。

33. 本文将主要叙述等离子溅射镀膜的原理与方法,并且简单介绍磁控管溅射仪和锇等离子镀膜仪等.

34. 溅射原子发射的角分布概率和溅射花样与高能溅射相类似。

35.21. 采用氢离子溅射和X射线光电子能谱相结合的方法，检测焦磷酸盐镀铜层和铁基体界面区含氧量的变化，证明了氧化层的存在。

36.28. 老实说,狂战斧挺好用的,它可以带来相当可观的攻击加成,恢复能力,并且它还有溅射效果.

37.44. 利用磁控射频溅射技术制备了ITO薄膜。

38.溅射、眩光，彻底消除眼睛疲劳，且不含液态汞。是绿色环保的首选光源。

39.32. 枪是一种先进的真空溅射镀膜器件，可用于进行多种真空镀膜工艺。

40.8. 在双元靶严格解的基础上，证明了泽优溅射与原子的半径大小无关。

41. 方法：用电子束蒸发和射频磁控溅射两种技术制备了天然HA薄膜。

42.用于消除直流反应溅射中异常放电的技术。

43.51. 用射频溅射的方法制备得的钆钴膜具有垂直于膜面的单轴各向异性。

44.成型工具、注射模具和诸如冲头和冲模之类的通用器具，以增强其耐磨性和使用寿命。

45. 在理论上考虑了原子级联碰撞过程中的能量和动量传输的不对称性，给出了一个与实验结果相符的同位素溅射角分布表达式。

46.48. 反应溅射中氧分压对薄膜的影响也很大，较高的氧气分压有助于较好结晶的二氧化钛薄膜的生成。

47. 高Z材料因其高熔点和低溅射率近年来受到越来越多的关注，但是难熔材料的脆性等问题仍然是这类材料应用的一大障碍。

48.22. 应用TRIM程序模拟了离子在氚钛靶上的溅射产额。

49. 在不同的衬底温度下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。

50. 在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中，离子源是其中最关键的单元技术之一。