溅射
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溅射的造句
1. 用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。
2.两套磁控溅射靶和冷却靶台。
3. 对于反应溅射,可通过连续改变反应气体流量制得化学成分比连续变化的梯度薄膜。
4. 采用磁控溅射方法制备金属锑薄膜,并把它作为锂离子二次电池负极进行研究。
5.34. 用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。
6.27. 首先提出真空管道自体真空镀膜新概念,采用特殊的阴极靶结构设计成功的解决了长管道内表面直流溅射镀膜的难题。
7. 采用磁控溅射法制备锰铜薄膜,溅射和真空蒸发法制备镱薄膜.
8.SEM、AFM等分析手段,以探索这两种方法在制备锌膜方面的一般规律。
9. 并且随着阴极温度升高,阴极溅射率也随之增加.
10.45. 采用磁控溅射法制备锰铜薄膜,溅射和真空蒸发法制备镱薄膜.
11. 分析了氘饱和状态下液态锂作为包层流动液帘表面的溅射问题,得到了氘饱和状态下液态和固态锂的溅射产额。
12. 利用磁控射频溅射技术制备了ITO薄膜。
13. 通过磁控反应溅射,在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。
14. 离化团束的溅射产额比之单体离子束高100倍以上。
15.46. 在离子束溅射镀膜机的膜厚控制系统的研究中,由于采用了现代检测手段,使测量精度大大提高。
16. 脉冲溅射是一种新型的、用于消除直流反应溅射中异常放电的技术。
17.用于消除直流反应溅射中异常放电的技术。
18.39. 在不同的衬底温度下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。
19.黄磷、五硫化二磷都属易燃有毒物品,如果用直流水枪直接喷射会造成着火物溅射导致火灾蔓延。
20. 应用TRIM程序模拟了离子在氚钛靶上的溅射产额。
21.43. 本文利用正交实验方法,对非平衡磁控溅射技术制备无氢DLC膜增透膜进行了研究,得到了影响薄膜光学性能的主要因素和最佳的制备工艺。
22.25. 方法:用电子束蒸发和射频磁控溅射两种技术制备了天然HA薄膜。
23. 反应磁控溅射广泛应用于制备光学薄膜.
24. 反应溅射中氧分压对薄膜的影响也很大,较高的氧气分压有助于较好结晶的二氧化钛薄膜的生成。
25.53. 在理论上考虑了原子级联碰撞过程中的能量和动量传输的不对称性,给出了一个与实验结果相符的同位素溅射角分布表达式。
26. 一蓬黑血溅射出一只拳头大的眼,其中的不甘让人有着瞬间的悲悯,随之砰然化为了飞烟。
27. 射频溅射沉积的薄膜均匀性和致密性要优于直流溅射沉积的薄膜。
28. 介绍一种大功率直流溅射恒流电源的设计。
29.44. 利用磁控射频溅射技术制备了ITO薄膜。
30. 采用磁控共溅射法制备了含不同尺寸纳米硅晶粒的氧化硅复合薄膜。
31. 枪是一种先进的真空溅射镀膜器件,可用于进行多种真空镀膜工艺。
32. 用磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了氮氧化铪薄膜。
33. 现在反应溅射法已被广泛应用于切削刀具、成型工具、注射模具和诸如冲头和冲模之类的通用器具,以增强其耐磨性和使用寿命。
34. 在不同条件下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。
35. 因为先被切开的切口处会因为血压的关系溅射出血液,这也是喷溅型血渍的成因。
36.21. 采用氢离子溅射和X射线光电子能谱相结合的方法,检测焦磷酸盐镀铜层和铁基体界面区含氧量的变化,证明了氧化层的存在。
37. 采用射频溅射制备BST薄膜,研究了薄膜的介电击穿特性。
38. 高Z材料因其高熔点和低溅射率近年来受到越来越多的关注,但是难熔材料的脆性等问题仍然是这类材料应用的一大障碍。
39.68. 具有自己生产蒸发和溅射匀胶铬版的知识产权。
40. 采用氢离子溅射和X射线光电子能谱相结合的方法,检测焦磷酸盐镀铜层和铁基体界面区含氧量的变化,证明了氧化层的存在。
41. 本文用光谱分析的方法研究低温反应射频溅射生长的A1N薄膜。
42. 以磁控溅射沉积方法,采用循环氩离子轰击镀和未循环轰击镀工艺在金属*上制备了铝薄膜。
43. 用射频溅射的方法制备得的钆钴膜具有垂直于膜面的单轴各向异性。
44.67. 一个个子不高的小胖子,笨拙的游趟在湖底,瞪大那双水灵灵的小眼睛,憨头憨脑的四处环望,不时狼狈的躲避着那溅射起的熔炎。
45. 这是溅射离子簇质谱中继“幻数”结构的另一个重要性质。
46.11. 为改善射频溅射法制备的防水透湿涂层的外观和拒水性,对涤纶织物基底上的溅射氟碳高分子膜的泛黄问题进行了研究。
47. 本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。
48.48. 反应溅射中氧分压对薄膜的影响也很大,较高的氧气分压有助于较好结晶的二氧化钛薄膜的生成。
49. 声声闷响传出,夏天身体呈现红金二色,二者相互争持侵蚀,三百六十道光点一个个的开始爆裂,尤为刺眼的血红色血液从中溅射而出。
50.65. 一蓬黑血溅射出一只拳头大的眼,其中的不甘让人有着瞬间的悲悯,随之砰然化为了飞烟。